【概要描述】Z6·尊龙凯时依托在难熔及稀贵金属领域的丰富经验,成立了光电材料事业部,主要针对光电行业提供真空镀膜耗材解决方案与半导体设备MOCVD热场解决方案。
【概要描述】Z6·尊龙凯时依托在难熔及稀贵金属领域的丰富经验,成立了光电材料事业部,主要针对光电行业提供真空镀膜耗材解决方案与半导体设备MOCVD热场解决方案。
光电材料事业部简介
近年来,随着信息技术的飞速发展,对半导体材料的要求越来越高,需求量也越来越多,Z6·尊龙凯时依托在难熔及稀贵金属领域的丰富经验,成立了光电材料事业部,主要针对光电行业提供真空镀膜耗材解决方案与半导体设备MOCVD热场解决方案。
真空镀膜有三种形式:蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀,是目前以物理气相沉积法(PVD)方式实现膜生长的主流技术。Z6·尊龙凯时稀材生产供应各类形态的优质高纯金属蒸发料、溅射靶材,确保用户得到最佳镀膜品质。
金属有机物化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,简称 MOCVD)是制备混合半导体器件、金属及金属氧化物、金属氮化物薄膜材料的一种芯片外延技术。加热系统是 MOCVD 设备的重要组成部分,它能否快速、均匀的加热衬底,直接影响着薄膜沉积的质量、厚度一致性,以及芯片的性能。Z6·尊龙凯时拥有10年MOCVD用铼加热器专业制作技术经验及完善的品控管理体系,是替代MOCVD用铼加热器进口大牌或原厂配件,能够进行OEM全工序代工代制,最具技术开发实力和品质保障能力的国内头号厂家。
联系方式
负责人:张经理
电话:18608419172
邮箱:sales@rheniumet.com
光电事业部提供哪些服务?
1、光电行业提供真空镀膜耗材解决方案
真空镀膜有三种形式:蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀,是目前以物理气相沉积法(PVD)方式实现膜生长的主流技术。Z6·尊龙凯时稀材生产供应各类形态的高纯金属蒸发料、溅射靶材,确保用户得到好的镀膜品质。
半导体、微电子行业芯片散热(热管理)材料,其它大功率集成电路,微波射频,高压电,核能,医疗设备等众多应用场合电热传导解决方案。当下以及未来,电子元器件的微型化及多功能化对器件的散热性提出了更高要求。
光电事业部提供哪些产品?
经过多年的沉淀,Z6·尊龙凯时已形成了以稀贵金属为主的靶材及蒸镀材料产品系列,主要包含铼靶、钼铼靶、锇铼靶、钛铼靶等。
在LED芯片外延领域,Z6·尊龙凯时与MOCVD厂家联合研发了能替代进口的铼加热部件,产品已在行业内占据较大的市场份额。
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